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半導體用高精度冷水機丨助力芯片良率提升

簡要描述:【無錫冠亞】是一家專注提供高低溫控溫解決方案的設備廠家,公司主要生產高低溫沖擊氣流儀(熱流儀)、chiller、超低溫制冷機、高低溫測試機機、高低溫沖擊箱等各種為通訊、光模塊、集成電路芯片、航空航天、天文探測、電池包氫能源等領域的可靠性測試提供整套溫度環境解決方案。半導體用高精度冷水機丨助力芯片良率提升

  • 產品型號:ETCU-200W
  • 廠商性質:生產廠家
  • 更新時間:2025-03-20
  • 訪  問  量:88
詳情介紹
品牌冠亞恒溫冷卻方式水冷式
價格區間10萬-50萬產地類別國產
儀器種類一體式應用領域化工,電子/電池,航空航天,汽車及零部件,電氣

半導體用高精度冷水機丨助力芯片良率提升

半導體用高精度冷水機丨助力芯片良率提升


在半導體制造的復雜流程中,刻蝕工藝是通過使用化學或物理方法,有選擇性地去除晶圓表面的材料,以形成電路圖案。而在這一工藝過程中,刻蝕工藝冷卻chiller保障刻蝕工藝的順利進行。

刻蝕工藝對環境溫度有著高要求。溫度的波動會影響刻蝕速率和刻蝕的均勻性。如果溫度過高,刻蝕劑的化學反應增強,可能導致刻蝕速率過快,難以控制刻蝕和圖案的精度;反之,溫度過低則會使刻蝕速率變慢,可能造成刻蝕不的情況。此外,溫度不均勻還會導致晶圓不同區域的刻蝕程度不一致。

刻蝕工藝冷卻chiller是如何滿足刻蝕工藝對溫度的嚴苛要求呢?其核心技術在于溫度調節和穩定的控溫能力。刻蝕工藝冷卻chiller的制冷循環系統是實現溫度控制的基礎。壓縮機將制冷劑壓縮升溫,高溫高壓的制冷劑氣體進入冷凝器,在這里釋放熱量并冷凝成液體。隨后,液態制冷劑經過節流裝置降壓降溫,進入蒸發器。在蒸發器中,制冷劑吸收周圍熱量,實現制冷效果,從而降低刻蝕設備及周邊環境的溫度。

刻蝕工藝冷卻chiller的循環系統采用全密閉設計,并配備磁力驅動泵,這種設計避免了冷卻液的泄漏和外界雜質的混入,確保了系統的穩定和可靠。同時,其控制系統能夠實現高精度的溫度控制,可以為刻蝕工藝提供穩定的溫度環境。

不同類型的刻蝕工藝冷卻chiller適用于不同的刻蝕工藝場景。比如氣體降溫控溫系列的 Chiller,適用于對通入刻蝕設備的氣體進行降溫處理,確保氣體在合適的溫度下參與刻蝕反應;直冷型 Chiller 則可以將制冷劑直接輸出到目標控制元件進行換熱,在一些對換熱效率要求高的刻蝕工藝中發揮作用;而快速溫變控溫卡盤能夠實現快速的溫度變化和控制,滿足某些特殊刻蝕工藝對溫度動態響應的需求。

在實際的半導體制造工廠中,刻蝕工藝冷卻chiller與刻蝕設備緊密配合,成為保障產品質量的關鍵因素之一。隨著半導體技術不斷向發展,刻蝕工藝冷卻chiller將不斷提升控溫精度、響應速度,繼續為刻蝕工藝以及整個半導體產業的發展提供堅實的支持。


半導體用高精度冷水機丨助力芯片良率提升




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