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高低溫循環裝置 結晶反應Tcu溫控單元

簡要描述:【無錫冠亞】 高低溫循環裝置 結晶反應Tcu溫控單元 應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。解決化學醫藥工業用準確控溫的特殊裝置,用以滿足間歇反應器溫度控制或持續不斷的工藝進程的加熱及冷卻、恒溫系統。

  • 產品型號:SUNDIZ8-4
  • 廠商性質:生產廠家
  • 更新時間:2025-01-17
  • 訪  問  量:716
詳情介紹
品牌冠亞制冷價格區間10萬-20萬
產地類別國產應用領域化工,生物產業,石油,制藥/生物制藥,綜合

高低溫循環裝置 結晶反應Tcu溫控單元


無錫冠亞冷熱一體機典型應用于:

高壓反應釜冷熱源動態恒溫控制、雙層玻璃反應釜冷熱源動態恒溫控制、

雙層反應釜冷熱源動態恒溫控制、微通道反應器冷熱源恒溫控制;

小型恒溫控制系統、蒸飽系統控溫、材料低溫高溫老化測試、

組合化學冷源熱源恒溫控制、半導體設備冷卻加熱、真空室制冷加熱恒溫控制







型號

SUNDI-125

SUNDI-125W

SUNDI-135

SUNDI-135W

SUNDI-155

SUNDI-155W

SUNDI-175

SUNDI-175W

SUNDI-1A10

SUNDI-1A10W

SUNDI-1A15

SUNDI-1A15W

介質溫度范圍

-10℃~+200℃

控制系統

前饋PID ,無模型自建樹算法,PLC控制器

溫控模式選擇

物料溫度控制與設備出口溫度控制模式 可自由選擇

溫差控制

設備出口溫度與反應物料溫度的溫差可控制、可設定

程序編輯

可編制5條程序,每條程序可編制40段步驟

通信協議

MODBUS RTU 協議  RS 485接口

外接入溫度反饋

PT100或4~20mA或通信給定(默認PT100)

溫度反饋

設備導熱介質 溫度、出口溫度、反應器物料溫度(外接溫度傳感器)三點溫度

導熱介質溫控精度

±0.5℃

反應物料溫控精度

±1℃

加熱功率 kW

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

制冷量 kW

200℃

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

20℃

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

-5℃

1.5

2.1

3.3

4.2

6

9

流量壓力 max

L/min bar

20

35

35

50

50

75

2

2

2

2

2

2.5

壓縮機

海立

艾默生谷輪/丹佛斯渦旋壓縮機

膨脹閥

丹佛斯/艾默生熱力膨脹閥

蒸發器

丹佛斯/高力板式換熱器

操作面板

7英寸彩色觸摸屏,溫度曲線顯示、記錄

安全防護

具有自我診斷功能;冷凍機過載保護;高壓壓力開關,過載繼電器、熱保護裝置等多種安全保障功能。

密閉循環系統

整個系統為全密閉系統,高溫時不會有油霧、低溫不吸收空氣中水份,系統在運行中不會因為高溫使壓力上升,低溫自動補充導熱介質。

制冷劑

R-404A/R507C

接口尺寸

G1/2

G3/4

G3/4

G1

G1

G1

水冷型 W

溫度 20度

600L/H

1.5bar~4bar

G3/8

800L/H

1.5bar~4bar

G1/2

1000L/H

1.5bar~4bar

G3/4

1200L/H

1.5bar~4bar

G3/4

1600L/H

1.5bar~4bar

G3/4

2000L/H

1.5bar~4bar

G3/4

外型尺寸(水)cm

45*65*120

50*85*130

50*85*130

55*100*175

55*100*175

70*100*175

外形尺寸 (風)cm

45*65*120

50*85*130

55*100*175

55*100*175

70*100*175

70*100*175

隔爆尺寸(風) cm

45*110*130

45*110*130

45*110*130

55*120*170

55*120*170

55*120*170

正壓防爆(水)cm

110*95*195

110*95*195

110*95*195

110*95*195

110*95*195

120*110*195

常規重量kg

115

165

185

235

280

300

電源 380V 50HZ

AC 220V 50HZ 3.6kW

5.6kW

7.5kW

10kW

13kW

20kW

選配風冷尺寸cm

/

50*68*145

50*68*145

50*68*145

/

/


 

 

  實驗室中的加熱制冷設備其操作涉及復雜的物理過程,為確保實驗安全、順利進行,操作人員在使用這些設備時需注意以下幾點:高低溫循環裝置 結晶反應Tcu溫控單元

  1. 安裝位置與環境要求

  加熱制冷設備應安裝在符合安全要求的位置,避免易燃、易爆或潮濕環境,以及易被磨損、撞擊和敲打的位置。同時,設備所在區域應通風良好,無易燃易爆物品,且地面平穩,防止設備運行時產生振動或傾倒。

  2. 電源安全

  在操作設備前,務必先關閉電源開關,并拔掉電源插頭。在設備發生故障、異常情況或緊急情況下,應立即切斷電源,并通知維修人員進行處理。高低溫循環裝置 結晶反應Tcu溫控單元

  3. 操作安全

  在進行加熱操作前,確保設備內無雜物,以防發生火災等意外情況。加熱過程中,密切關注設備的溫度變化,并在溫度達到設定值后及時關閉加熱功能。

  4. 設備維護與保養

  定期檢查設備的運行狀況,如發現異常情況應及時停止使用并聯系維修人員處理。定期清潔設備的冷凝器、蒸發器等部件,以保持其良好的散熱效果。

  5. 操作人員培訓與規范

  操作人員熟悉設備的使用說明書及實驗室安全規程,并經過相關培訓后方可獨立操作設備。嚴格按照設備的使用要求進行操作,不得隨意拆卸、更換或調整設備部件。

  6. 特殊情況處理

  實驗中如遇到異常情況或設備故障,應立即停止實驗操作,及時向實驗室管理員或教師報告。

  7. 特定設備注意事項

  使用前檢查設備是否處于良好狀態,包括電源線、控制面板、溫度傳感器等是否完好無損。在操作過程中,密切關注反應釜內的溫度、壓力等參數,確保處于安全范圍內。

綜上所述,實驗室用加熱制冷設備的操作涉及多方面的注意事項,操作人員須嚴格遵守相關規定和操作規程,確保實驗安全、順利進行。


高低溫循環裝置 結晶反應Tcu溫控單元







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