無(wú)錫冠亞冷熱一體機(jī)典型應(yīng)用于：

高壓反應(yīng)釜冷熱源動(dòng)態(tài)恒溫控制、雙層玻璃反應(yīng)釜冷熱源動(dòng)態(tài)恒溫控制、

雙層反應(yīng)釜冷熱源動(dòng)態(tài)恒溫控制、微通道反應(yīng)器冷熱源恒溫控制；

小型恒溫控制系統(tǒng)、蒸飽系統(tǒng)控溫、材料低溫高溫老化測(cè)試、

組合化學(xué)冷源熱源恒溫控制、半導(dǎo)體設(shè)備冷卻加熱、真空室制冷加熱恒溫控制。  

TCU高低溫循環(huán)裝置安裝需要注意的問(wèn)題

TCU高低溫循環(huán)裝置安裝需要注意的問(wèn)題

　　使用300℃高低溫循環(huán)一體機(jī)離不開(kāi)其規(guī)范的使用操作，300℃高低溫循環(huán)一體機(jī)在銷(xiāo)售時(shí)會(huì)與設(shè)備出廠時(shí)相應(yīng)的300℃高低溫循環(huán)一體機(jī)使用說(shuō)明書(shū)相對(duì)應(yīng)，用戶(hù)在使用時(shí)可事先了解下。

　　高低溫300℃循環(huán)一體機(jī)能實(shí)現(xiàn)200℃高溫、-20℃低溫恒溫測(cè)試，為用戶(hù)提供熱冷卻受控、恒溫均勻的場(chǎng)源，也可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源，全量程范圍內(nèi)的溫度控制，應(yīng)用于石化、制藥等化學(xué)反應(yīng)過(guò)程控制，半導(dǎo)體擴(kuò)散爐擴(kuò)散過(guò)程控制，在反應(yīng)釜、全自動(dòng)合成儀器、萃取和冷凝裝置中的恒溫控溫或外循環(huán)應(yīng)用。

　　TCU高低溫循環(huán)裝置廣泛應(yīng)用于各種實(shí)驗(yàn)儀器設(shè)備進(jìn)行制冷加熱控溫使用，如：旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀、X射線衍射儀、ICP發(fā)射光譜儀、ICP質(zhì)譜儀、石墨爐原子吸收光譜儀、熒光分析儀、電子顯微鏡、生產(chǎn)試驗(yàn)設(shè)備、數(shù)控機(jī)床、激光設(shè)備等。該機(jī)為一體式設(shè)備，冷凝器-壓縮機(jī)、蒸發(fā)器-循環(huán)水泵機(jī)組均安裝在同一機(jī)箱內(nèi)，此類(lèi)機(jī)組一般安裝在室內(nèi)。

　　TCU高低溫循環(huán)裝置以冷卻劑作為傳熱介質(zhì)，將其他需要冷卻的儀器或設(shè)備產(chǎn)生的熱量輸送出去，通過(guò)制冷系統(tǒng)將熱量送到設(shè)備外部，確保設(shè)備在正常溫度范圍內(nèi)工作。該裝置和儀表之間依靠裝置內(nèi)泵的壓力形成閉式介質(zhì)循環(huán)，通過(guò)溫度傳感器檢測(cè)介質(zhì)溫度，實(shí)現(xiàn)冷卻器的控制。

　　TCU高低溫循環(huán)裝置應(yīng)安裝在環(huán)境良好的實(shí)驗(yàn)室內(nèi)；無(wú)錫冠亞TCU高低溫循環(huán)裝置應(yīng)安裝在通風(fēng)良好、無(wú)塵的穩(wěn)固地面或?qū)嶒?yàn)臺(tái)面上，避免飛沫、多蒸氣及可能發(fā)生流入、流滯、泄漏氣體的地方，避免靠近可產(chǎn)生高頻設(shè)備的地方(高頻電焊機(jī)等)。

TCU高低溫循環(huán)裝置在避免頻繁使用酸性溶液和頻繁使用特殊噴霧器(含硫化物等)的情況下，從維護(hù)和安裝時(shí)的方便和方面考慮，應(yīng)盡量確保在室內(nèi)機(jī)和障礙物之間有足夠的空間。